| Élément | |
|---|---|
31GaGallium69.72312
8 18 3 |
|
| Propriétés de base | |
|---|---|
| Numéro atomique | 31 |
| Masse atomique | 69.7231 amu |
| Famille d'éléments | D'autres métaux |
| Période | 4 |
| Groupe | 13 |
| Bloc | p-block |
| Année découverte | 1875 |
| Distribution des isotopes |
|---|
69Ga 60.1% 71Ga 39.9% |
69Ga (60.10%) 71Ga (39.90%) |
| Propriétés physiques | |
|---|---|
| Densité | 5.907 g/cm3 (STP) |
H (H) 8.988E-5 Meitnérium (Mt) 28 | |
| Fusion | 29.76 °C |
Hélium (He) -272.2 Carbone (C) 3675 | |
| Ébullition | 2403 °C |
Hélium (He) -268.9 Tungstène (W) 5927 | |
| Propriétés chimiques | |
|---|---|
| États d'oxydation (moins courant) | +3 (-5, -4, -3, -2, -1, 0, +1, +2) |
| Potentiel de première ionisation | 5.999 eV |
Césium (Cs) 3.894 Hélium (He) 24.587 | |
| Affinité électronique | 0.301 eV |
Nobelium (No) -2.33 Cl (Cl) 3.612725 | |
| Électronégativité | 1.81 |
Césium (Cs) 0.79 F (F) 3.98 | |
| Rayon atomique | |
|---|---|
| Rayon covalent | 1.24 Å |
H (H) 0.32 Francium (Fr) 2.6 | |
| Van der Waals rayon | 1.87 Å |
H (H) 1.2 Francium (Fr) 3.48 | |
| Rayon métallique | 1.35 Å |
Béryllium (Be) 1.12 Césium (Cs) 2.65 | |
| Composés | ||
|---|---|---|
| Formule | Nom | État d'oxydation |
| Mg5Ga2 | Digallide de pentamagnésium | -5 |
| Ga2O | Oxyde de gallium(i) | +1 |
| GaCl | Chlorure de gallium(i) | +1 |
| GaSe | Séléniure de gallium(II) | +2 |
| GaTe | Tellurure de gallium(II) | +2 |
| GaN | Nitrure de gallium | +3 |
| GaAs | Arséniure de gallium | +3 |
| Ga2O3 | Oxyde de gallium(III) | +3 |
| GaCl3 | Trichlorure de gallium | +3 |
| GaP | Phosphure de gallium | +3 |
| GaBr3 | Bromure de gallium (III) | +3 |
| Ga(CH3)3 | Triméthylgallium | +3 |
| Propriétés électroniques | |
|---|---|
| Électrons par couche | 2, 8, 18, 3 |
| Configuration électronique | [Ar] 3d10 |
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Modèle atomique de Bohr
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Diagramme de la boîte orbitale
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| électrons de valence | 3 |
| Structure de Lewis en points |
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| Visualisation orbitale | |
|---|---|
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| Électrons | - |
Gallium (Ga) : Élément du tableau périodique
Résumé
Le gallium (symbole Ga, numéro atomique 31) représente un élément métal post-transitionnel distingué par son point de fusion exceptionnellement bas de 29,7646°C, le plaçant parmi les rares métaux liquides à température proche ambiante. L'élément présente principalement des états d'oxydation trivalents dans ses composés, formant des substances binaires et ternaires stables dotées de propriétés caractéristiques de semi-conducteurs. Le gallium démontre un comportement cristallographique unique avec une symétrie orthorhombique et une dilatation thermique anisotrope. Son importance industrielle provient principalement de ses applications en semi-conducteurs, notamment dans les technologies d'arséniure de gallium et de nitrure de gallium utilisées en électronique haute fréquence et en dispositifs optoélectroniques. Son occurrence naturelle reste limitée à des concentrations traces dans les minerais d'aluminium et de zinc, nécessitant des procédés d'extraction spécialisés pour sa production commerciale.
Introduction
Le gallium occupe la position 31 dans le tableau périodique, constituant le premier métal post-transitionnel du groupe 13 (IIIA) et période 4. Sa configuration électronique [Ar] 3d¹⁰ 4s² 4p¹ caractérise son comportement chimique, la sous-couche d remplie fournissant des effets supplémentaires de blindage nucléaire influençant ses propriétés par rapport à l'aluminium. Découvert en 1875 par Paul-Émile Lecoq de Boisbaudran par analyse spectroscopique de la blende, le gallium a représenté la première confirmation des prédictions de la loi périodique de Dmitri Mendeleïev, initialement désigné comme « eka-aluminium » selon sa position anticipée. L'importance de l'élément s'est considérablement accrue avec le développement des technologies semi-conductrices, où les composés de gallium constituent des matériaux fondamentaux pour les applications électroniques et optoélectroniques modernes. La demande industrielle actuelle se concentre sur la production d'arséniure de gallium et de nitrure de gallium pour les dispositifs haute fréquence, diodes électroluminescentes et systèmes photovoltaïques.
Propriétés physiques et structure atomique
Paramètres atomiques fondamentaux
Le gallium présente le numéro atomique 31 avec une masse atomique standard de 69,723 ± 0,001 u, représentant la moyenne pondérée des deux isotopes stables : ⁶⁹Ga (60,108 % d'abondance) et ⁷¹Ga (39,892 % d'abondance). La structure électronique [Ar] 3d¹⁰ 4s² 4p¹ démontre un comportement typique des métaux post-transitionnels, la sous-couche 3d¹⁰ remplie contribuant à un blindage nucléaire accru. L'énergie de première ionisation atteint 578,8 kJ mol⁻¹, nettement supérieure à celle de l'aluminium (577,5 kJ mol⁻¹) en raison de l'effet de contraction des électrons d. Le rayon atomique mesure 122 pm, tandis que le rayon ionique pour Ga³⁺ est de 62 pm en coordination sixfold. Les valeurs d'électronégativité s'étendent de 1,81 (échelle de Pauling) à 1,76 (échelle d'Allred-Rochow), indiquant une capacité modérée d'attraction des électrons lors de la formation de composés.
Caractéristiques physiques macroscopiques
Le gallium élémentaire présente une apparence métallique argentée-bleutée avec un point de fusion exceptionnellement bas de 29,7646°C (302,9146 K), le classant parmi les quatre métaux non radioactifs liquides en conditions proches ambiante avec le césium, le rubidium et le mercure. Son point d'ébullition atteint 2204°C (2477 K), offrant une plage de température liquide extrêmement large d'environ 2174 K. La densité au point de fusion est de 5,91 g cm⁻³, la densité à l'état solide atteignant 5,907 g cm⁻³ à 20°C. Une dilatation volumique de 3,1 % se produit lors de la solidification, comportement inhabituel parmi les éléments métalliques. Sa structure cristalline adopte une symétrie orthorhombique avec le groupe spatial Cmca, contenant huit atomes par maille unitaire. La distance interatomique la plus courte mesure 244 pm, avec des voisins supplémentaires à 271, 274 et 279 pm, formant des unités dimériques Ga₂ par liaisons covalentes.
Propriétés chimiques et réactivité
Structure électronique et comportement de liaison
Les schémas de réactivité chimique reflètent la configuration orbitale 4p¹ partiellement remplie, permettant la formation de composés principalement trivalents avec quelques espèces monovalentes occasionnelles. Le gallium(III) représente l'état d'oxydation thermodynamiquement favorisé, formant des composés ioniques et covalents stables avec les éléments électronégatifs. Les liaisons utilisent l'hybridation sp³ en coordination tétraédrique ou sp²d² en environnements octaédriques. La liaison covalente prédomine en chimie organogallium, où les dérivés alkyles et aryles démontrent une stabilité thermique modérée. Des liaisons gallium-gallium apparaissent dans certains composés comme Ga₂Cl₄, contenant des centres formels Ga(II) avec liaison métal-métal. Les composés de gallium(III) présentent une acidité de Lewis, acceptant des paires d'électrons des molécules donneuses pour étendre leurs sphères de coordination au-delà de la configuration trivalente.
Propriétés électrochimiques et thermodynamiques
Le potentiel standard de réduction du couple Ga³⁺/Ga est de -0,529 V par rapport à l'électrode standard à hydrogène, indiquant une réductibilité modérée du gallium métallique. Les deuxième et troisième énergies d'ionisation mesurent respectivement 1979,3 kJ mol⁻¹ et 2963 kJ mol⁻¹, reflétant la difficulté progressive d'extraction des électrons des orbitales contractées 4s² et 3d¹⁰. L'affinité électronique atteint 28,9 kJ mol⁻¹, démontrant une tendance limitée à la formation d'anions. La stabilité thermodynamique de l'oxyde de gallium(III) (ΔH°f = -1089,1 kJ mol⁻¹) favorise l'oxydation spontanée en air à haute température, formant des couches protectrices en conditions ambiantes. Les constantes d'hydrolyse du Ga³⁺ aqueux indiquent un comportement hydrolytique significatif, la première constante d'hydrolyse pKh₁ = 2,6 établissant des conditions acides en solution par formation de l'espèce [Ga(H₂O)₅OH]²⁺.
Composés chimiques et formation de complexes
Composés binaires et ternaires
L'oxyde de gallium existe sous plusieurs formes polymorphiques, avec α-Ga₂O₃ représentant la phase thermodynamiquement stable en conditions standard. Sa structure de type corindon présente une stabilité thermique exceptionnelle et une bande interdite large (4,8 eV) adaptée aux applications semi-conductrices à haute température. Les halogénures de gallium forment des séries complètes avec le fluor, le chlore, le brome et l'iode, adoptant des structures moléculaires en phase gazeuse et des arrangements dimériques à l'état solide pour les halogènes lourds. Le fluorure de gallium(III) montre un caractère ionique avec une énergie réticulaire élevée, tandis que le bromure et l'iodure tri- présentent une liaison principalement covalente. Le sulfure de gallium (Ga₂S₃) cristallise sous trois modifications distinctes : forme α (structure blende), forme β (structure wurtzite) et forme γ (structure spinelle déficiente), chacune possédant des propriétés semi-conductrices avec des énergies de bande interdite variables. Les composés binaires d'arséniure et de phosphure de gallium représentent des semi-conducteurs III-V technologiquement essentiels avec des bandes interdites directes permettant une émission efficace de photons.
Chimie de coordination et composés organométalliques
Les complexes de coordination du gallium(III) adoptent généralement une géométrie octaédrique avec des nombres de coordination variant de quatre à six selon les propriétés des ligands et les contraintes stériques. Les solutions aqueuses de gallium contiennent des ions hexahydratés [Ga(H₂O)₆]³⁺ subissant des réactions successives d'hydrolyse à pH élevé. Les ligands chélatants comme l'acide éthylènediaminetétraacétique (EDTA) forment des complexes thermodynamiquement stables avec des constantes de formation supérieures à 10²⁰. La chimie organogallium englobe des dérivés trialcoyles et triaryles, avec le triméthylgallium (Ga(CH₃)₃) servant de précurseur clé pour les dépôts chimiques en phase vapeur. Ces composés présentent des structures monomériques en solution, contrairement aux analogues organoaluminium dimériques, en raison d'une acidité de Lewis réduite. Les énergies des liaisons gallium-carbone approchent 255 kJ mol⁻¹, fournissant une stabilité thermodynamique modérée en conditions ambiantes tout en permettant une décomposition thermique contrôlée pour les procédés de dépôt de films minces.
Occurrence naturelle et analyse isotopique
Distribution géochimique et abondance
L'abondance crustale du gallium moyenne 19 ppm, le classant parmi les éléments modérément rares dans la lithosphère. Son comportement géochimique suit étroitement celui de l'aluminium en raison de similitudes des rayons ioniques et densités de charge, entraînant une substitution isomorphe dans les structures minérales d'aluminosilicates. Les associations minérales principales incluent les minerais de bauxite (hydroxydes d'aluminium), où les concentrations de gallium atteignent 50-100 ppm par incorporation préférentielle durant les processus d'altération. Les minerais de sulfure de zinc, particulièrement la sphalérite (ZnS), contiennent des concentrations élevées de gallium jusqu'à 1000 ppm via des mécanismes de substitution ionique. Les dépôts de charbon accumulent le gallium par processus biogéochimiques, certains types atteignant des concentrations supérieures à 100 ppm. L'eau de mer contient environ 30 nL L⁻¹ de gallium, maintenu par un équilibre avec des particules d'aluminosilicates et des processus d'absorption biologique.
Propriétés nucléaires et composition isotopique
Le gallium naturel comprend deux isotopes stables : ⁶⁹Ga (60,108 ± 0,002 %) et ⁷¹Ga (39,892 ± 0,002 %), sans isotopes radioactifs à longue durée de vie. Les propriétés nucléaires incluent un spin nucléaire I = 3/2 pour les deux isotopes, permettant des applications en spectroscopie de résonance magnétique nucléaire. Les moments magnétiques mesurent +2,01659 magnétons nucléaires pour ⁶⁹Ga et +2,56227 magnétons nucléaires pour ⁷¹Ga. Les radioisotopes artificiels couvrent des masses allant de 60 à 89, avec ⁶⁷Ga (demi-vie 3,261 jours) et ⁶⁸Ga (demi-vie 67,7 minutes) utilisés en imagerie médicale nucléaire. Les sections efficaces de capture neutronique thermique valent 2,9 barns (⁶⁹Ga) et 5,1 barns (⁷¹Ga), indiquant des caractéristiques modérées d'absorption neutronique. La désintégration bêta-plus domine pour les isotopes légers, tandis que la désintégration bêta-moins caractérise les isotopes lourds au-delà de la masse 71.
Production industrielle et applications technologiques
Méthodologies d'extraction et de purification
La récupération commerciale du gallium utilise les flux résiduaires de l'industrie de l'aluminium, particulièrement les liquides du procédé Bayer issus du raffinage de bauxite. L'efficacité d'extraction varie de 70 à 90 % par lixiviation alcaline suivie de précipitation sélective par réduction au zinc ou méthodes électrolytiques. La purification nécessite des techniques de raffinage de zone pour atteindre des niveaux de pureté électronique supérieurs à 99,9999 % (6N), les concentrations d'impuretés critiques restant inférieures à 1 ppm. Des sources alternatives incluent les résidus de fonderies de zinc et les cendres volantes de charbon, bien que l'économie favorise les sous-produits de l'industrie aluminium pour la production à grande échelle. La production mondiale annuelle approche 320 tonnes métriques, la Chine fournissant environ 95 % de l'offre mondiale via des installations intégrées d'extraction gallium-aluminium. Les coûts de production reflètent les exigences énergétiques des étapes de purification, le gallium de qualité semi-conducteur atteignant des prix élevés en raison des spécifications de pureté rigoureuses.
Applications technologiques et perspectives futures
Les applications en semi-conducteurs dominent la consommation de gallium, les plaquettes d'arséniure de gallium permettant des dispositifs micro-ondes haute fréquence, stations cellulaires et systèmes de communication par satellite. Les propriétés des semi-conducteurs composés incluent des bandes interdites directes, mobilité électronique élevée et résistance au rayonnement supérieure aux alternatives silicium. La technologie du nitrure de gallium soutient l'électronique de puissance à large bande interdite, permettant des systèmes efficaces de conversion de tension et des amplificateurs radiofréquence haute puissance. La fabrication de diodes électroluminescentes utilise des alliages nitrure d'indium-gallium pour des sources d'éclairage bleu et blanc, segment de marché en expansion rapide. Les applications photovoltaïques spatiales et terrestres concentrées emploient des cellules en arséniure de gallium atteignant des niveaux record d'efficacité supérieurs à 46 % sous lumière concentrée. Les applications en métaux liquides exploitent son point de fusion bas pour des systèmes spécialisés de transfert thermique, thermométrie et alliages à mémoire de forme. Les domaines futurs incluent les dispositifs spintroniques, l'informatique quantique et les technologies avancées de semi-conducteurs de puissance pour véhicules électriques et systèmes d'énergie renouvelable.
Développement historique et découverte
La prédiction théorique du gallium a précédé sa découverte expérimentale de quatre ans, lorsque Dmitri Mendeleïev a anticipé l'existence de « eka-aluminium » en 1871 selon les principes de la loi périodique. Les propriétés prédites incluaient la masse atomique (68 u), la densité (5,9 g cm⁻³), le point de fusion (bas) et la formule de l'oxyde (M₂O₃), démontrant une précision remarquable dans les systématiques périodiques. Paul-Émile Lecoq de Boisbaudran a réalisé la première isolation en août 1875 par examen spectroscopique de blende des Pyrénées, observant des raies spectrales violettes caractéristiques à 417,2 et 403,3 nm. La détermination initiale de la densité donnait 4,7 g cm⁻³, provoquant la suggestion de Mendeleïev de refaire les mesures, confirmant la valeur prédite de 5,9 g cm⁻³. Le nom dérive du latin « Gallia » (France), bien qu'une interprétation populaire ait suggéré un jeu de mots sur le nom du découvreur (Le coq = gallus en latin). Les applications industrielles ont été limitées à des alliages spécialisés et à la thermométrie jusqu'au développement des semi-conducteurs dans les années 1960 établissant l'arséniure de gallium comme matériau technologiquement significatif. Les recherches contemporaines mettent l'accent sur les technologies de nitrure de gallium à large bande interdite et les dispositifs hétérostructures avancés pour les applications électroniques de prochaine génération.
Conclusion
Le gallium illustre l'intégration réussie des connaissances chimiques fondamentales avec l'innovation technologique, passant d'une curiosité de laboratoire à un élément essentiel en technologie moderne des semi-conducteurs. Sa combinaison unique de point de fusion bas, chimie trivalente et propriétés semi-conductrices de composés continue d'alimenter la recherche en matériaux électroniques avancés. Sa position dans le groupe 13 fournit un comportement chimique prévisible tout en permettant la formation de semi-conducteurs III-V technologiquement cruciaux aux performances supérieures aux alternatives silicium. Les futures applications en électronique de puissance à large bande interdite, dispositifs quantiques et systèmes photoniques de nouvelle génération assureront sa pertinence dans le développement technologique de multiples secteurs industriels.

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