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Silicium @ Tableau périodique des éléments chimiques

12345678 910111213141516 1718
IIIIIIbIVb VbVIbVIIbVIIIbIb IIbIIIIVVVI VIIVIII
1H
1.0079
2He
4.0026
3Li
6.9412
4Be
9.0121
5B
10.811
6C
12.010
7N
14.006
8O
15.999
9F
18.998
10Ne
20.179
11Na
22.989
12Mg
24.305
13Al
26.981
14Si
28.085
15P
30.973
16S
32.065
17Cl
35.453
18Ar
39.948
19K
39.098
20Ca
40.078
21Sc
44.955
22Ti
47.867
23V
50.941
24Cr
51.996
25Mn
54.938
26Fe
55.845
27Co
58.933
28Ni
58.693
29Cu
63.546
30Zn
65.409
31Ga
69.723
32Ge
72.641
33As
74.921
34Se
78.963
35Br
79.904
36Kr
83.798
37Rb
85.467
38Sr
87.621
39Y
88.905
40Zr
91.224
41Nb
92.906
42Mo
95.942
43Tc
98.906
44Ru
101.07
45Rh
102.90
46Pd
106.42
47Ag
107.86
48Cd
112.41
49In
114.81
50Sn
118.71
51Sb
121.76
52Te
127.60
53I
126.90
54Xe
131.29
55Cs
132.90
56Ba
137.32
57La
138.90
72Hf
178.49
73Ta
180.94
74W
183.84
75Re
186.20
76Os
190.23
77Ir
192.21
78Pt
195.08
79Au
196.96
80Hg
200.59
81Tl
204.38
82Pb
207.21
83Bi
208.98
84Po
208.98
85At
209.98
86Rn
222.01
87Fr
223.01
88Ra
226.02
89Ac
227.02
104Rf
261.10
105Db
262.11
106Sg
266.12
107Bh
264.12
108Hs
269
109Mt
278
110Ds
281
111Rg
282
112Cn
285
113Nh
286
114Fl
289
115Mc
290
116Lv
293
117Ts
294
118Og
294
Lanthanides58Ce
140.11
59Pr
140.90
60Nd
144.24
61Pm
146.91
62Sm
150.36
63Eu
151.96
64Gd
157.25
65Tb
158.92
66Dy
162.50
67Ho
164.93
68Er
167.25
69Tm
168.93
70Yb
173.04
71Lu
174.96
Actinides90Th
232.03
91Pa
231.03
92U
238.02
93Np
237.04
94Pu
244.06
95Am
243.06
96Cm
247.07
97Bk
247.07
98Cf
251.07
99Es
252.08
100Fm
257.09
101Md
258.09
102No
259.10
103Lr
260.10
Les métaux alcalins Métaux alcalino-terreux Les métaux de transition D'autres métaux Métaloïdes Non-métaux Halogènes Les gaz nobles
Élément

14

Si

Silicium

28.08553

2
8
4
Silicium photo
Propriétés de base
Numéro atomique14
Masse atomique28.08553 amu
Famille d'élémentsMétaloïdes
Période3
Groupe14
Blocp-block
Année découverte1823
Distribution des isotopes
28Si
92.23%
29Si
4.67%
30Si
3.10%
28Si: 92.23%29Si: 4.67%30Si: 3.10%
28Si (92.23%)
29Si (4.67%)
30Si (3.10%)
Propriétés physiques
Densité 2.3296 g/cm3 (STP)
(H) 8.988E-5
Meitnérium (Mt) 28
Fusion1410 °C
Hélium (He) -272.2
Carbone (C) 3675
Ébullition2355 °C
Hélium (He) -268.9
Tungstène (W) 5927
Propriétés chimiques
États d'oxydation
(moins courant)
-4, +4
(-3, -2, -1, 0, +1, +2, +3)
Potentiel de première ionisation 8.151 eV
Césium (Cs) 3.894
Hélium (He) 24.587
Affinité électronique 1.390 eV
Nobelium (No) -2.33
(Cl) 3.612725
Électronégativité1.9
Césium (Cs) 0.79
(F) 3.98
Rayon atomique
Rayon covalent 1.16 Å
(H) 0.32
Francium (Fr) 2.6
Van der Waals rayon 2.1 Å
(H) 1.2
Francium (Fr) 3.48
14SiWebQC.OrgCovalentVan der Waals
Composés
FormuleNomÉtat d'oxydation
SiCCarborundum-4
SiH4Silane-4
SiOMonoxyde de silicium+2
SiSMonosulfure de silicium+2
Si2H6Disilane+3
Si2Cl6Hexachlorodisilane+3
SiO2Dioxyde de silicone+4
Na2SiO3Métasilicate de sodium+4
SiCl4Tétrachlorure de silicium+4
Si3N4Nitrure de silicium+4
Si(N3)4Tétraazide de silicium+4
SiAu4Aurosilane+4
Propriétés électroniques
Électrons par couche2, 8, 4
Configuration électronique[Ne] 3s23p2
Modèle atomique de Bohr
Modèle atomique de Bohr
Diagramme de la boîte orbitale
Diagramme de la boîte orbitale
électrons de valence4
Structure de Lewis en points Silicium Structure de Lewis en points
Visualisation orbitale
🏠
▶️
📐
Électrons-

Silicium (Si) : Élément du tableau périodique

Article de synthèse scientifique | Série de référence en chimie

Résumé

Le silicium (Si, numéro atomique 14) est le deuxième élément le plus abondant dans la croûte terrestre avec une concentration de 27,2 % en masse et occupe une position centrale dans le groupe 14 du tableau périodique. Ce métalloïde présente une structure cristalline cubique diamant et démontre des propriétés semi-conductrices qui définissent la technologie électronique moderne. Avec un point de fusion de 1414 °C et une configuration électronique [Ne]3s²3p², le silicium forme principalement des liaisons covalentes par hybridation sp³. Les applications industrielles incluent les alliages ferrosilicium représentant 80 % de la production ainsi que les dispositifs semi-conducteurs qui constituent la base technologique de l'ère de l'information. Son occurrence naturelle se limite exclusivement aux formes oxydées telles que la silice (SiO₂) et les minéraux silicates, avec trois isotopes stables (²⁸Si, ²⁹Si, ³⁰Si) et 22 radioisotopes caractérisés. La combinaison unique de stabilité chimique, de propriétés thermiques et de caractéristiques électroniques établit son importance fondamentale dans les domaines de la métallurgie, de la construction et des technologies avancées.

Introduction

Le silicium occupe la position 14 dans le tableau périodique, le plaçant dans le groupe du carbone (groupe 14) et la troisième période avec une structure électronique [Ne]3s²3p². Cette position détermine sa nature tétravalente et ses propriétés intermédiaires entre les métaux et les non-métaux, le classant comme un métalloïde. Son importance s'étend des processus géologiques, où il constitue la structure de base de la plupart des minéraux crustaux, aux applications technologiques qui ont défini l'ère moderne. La capacité du silicium à former des réseaux covalents étendus par coordination tétraédrique permet à la fois les structures cristallines des minéraux silicates et les propriétés électroniques précisément contrôlées essentielles aux dispositifs semi-conducteurs. La découverte par Jöns Jakob Berzelius en 1823, réalisée par réduction du fluorosilicate de potassium, a marqué le début de la chimie systématique du silicium, conduisant finalement au développement de la technologie des semi-conducteurs qui caractérise la civilisation numérique actuelle.

Propriétés physiques et structure atomique

Paramètres atomiques fondamentaux

La structure atomique du silicium comprend 14 protons, généralement 14 neutrons dans l'isotope le plus abondant ²⁸Si, et 14 électrons organisés en configuration [Ne]3s²3p². La charge nucléaire effective ressentie par les électrons de valence est d'environ +4,29, résultant de la charge nucléaire partiellement écrantée par les électrons du cœur néon. Le rayon covalent mesure 117,6 pm pour les liaisons simples, tandis que le rayon ionique théorique atteint environ 40 pm dans des environnements hexacoordinés, bien que le silicium existe rarement dans des états ioniques purs. Les quatre électrons de valence en configuration 3s²3p² subissent facilement une hybridation sp³, créant quatre orbitales tétraédriques équivalentes qui définissent la chimie de coordination du silicium. Les énergies successives d'ionisation de 786,3, 1576,5, 3228,3 et 4354,4 kJ/mol traduisent la difficulté croissante d'arracher des électrons à des ions silicium de charge positive croissante, avec un saut important entre la troisième et quatrième énergies d'ionisation indiquant la stabilité de la configuration Si⁴⁺.

Caractéristiques physiques macroscopiques

Le silicium cristallise dans la structure cubique diamant (groupe spatial Fd3̄m, n° 227) avec chaque atome de silicium coordonné tétraédriquement à quatre autres à une distance de 235 pm. Cette disposition crée un solide dur et fragile avec un éclat métallique bleu-gris et une densité de 2,329 g/cm³ à température ambiante. Le point de fusion de 1414 °C (1687 K) et le point d'ébullition de 3265 °C (3538 K) reflètent la solidité des liaisons covalentes à travers le réseau cristallin. La chaleur de fusion est de 50,2 kJ/mol, tandis que la chaleur de vaporisation atteint 384,22 kJ/mol, indiquant des exigences énergétiques substantielles pour les transitions de phase. La capacité thermique massique mesure 0,712 J/(g·K) à 25 °C, démontrant la stabilité thermique du silicium. Le matériau présente des propriétés semi-conductrices avec une bande interdite de 1,12 eV à température ambiante, permettant une conductivité électrique contrôlée par dopage avec des éléments des groupes 13 ou 15. Le coefficient de dilatation thermique de 2,6 × 10⁻⁶ K⁻¹ garantit une stabilité dimensionnelle à température modérée.

Propriétés chimiques et réactivité

Structure électronique et comportement de liaison

Le comportement chimique du silicium découle de ses quatre électrons de valence et de sa capacité à étendre sa coordination au-delà de quatre par participation des orbitales d. Les états d'oxydation courants incluent -4 dans les siliciures métalliques, +2 dans les subhalogénures et +4 dans la plupart des composés stables, bien que des états intermédiaires existent dans certains cas. L'électronégativité de 1,90 sur l'échelle de Pauling place le silicium entre les métaux et non-métaux typiques, permettant la formation de liaisons covalentes polaires avec la plupart des éléments. L'énergie de liaison Si-Si d'environ 226 kJ/mol, nettement inférieure aux 356 kJ/mol de la liaison C-C, explique la limitation de la caténation du silicium et sa préférence pour les liaisons avec l'oxygène. Le silicium forme facilement quatre orbitales hybridées sp³, créant une géométrie tétraédrique dans des composés comme SiCl₄ et SiH₄. Le nombre de coordination peut s'étendre à six par participation des orbitales 3d, comme observé dans les complexes SiF₆²⁻, où les liaisons Si-F mesurent 169 pm contre 156 pm dans le SiF₄ tétraédrique.

Propriétés électrochimiques et thermodynamiques

Le silicium présente plusieurs valeurs d'électronégativité selon la méthode de mesure : 1,90 (Pauling), 2,03 (Allen), reflétant son caractère métallique-non métallique intermédiaire. Les potentiels de réduction standards des espèces silicium montrent des préférences thermodynamiques : Si + 4e⁻ → Si⁴⁺ a pour E° = -0,857 V, indiquant le caractère réducteur du silicium en solution acide. L'affinité électronique du silicium atteint 133,6 kJ/mol, nettement inférieure à celle du carbone (121,3 kJ/mol) mais suffisante pour former des anions stables dans les siliciures métalliques. Les énergies successives d'ionisation révèlent la structure électronique : les quatre premiers électrons peuvent être arrachés avec des apports énergétiques relativement modérés (786,3, 1576,5, 3228,3, 4354,4 kJ/mol), mais la cinquième énergie d'ionisation bondit à 16091 kJ/mol, confirmant son caractère tétravalent. La stabilité thermodynamique des composés silicium suit l'ordre : silicates > dioxyde de silicium > carbure de silicium > nitrure de silicium, la formation de silicates libérant l'énergie la plus importante par mole de silicium consommé.

Composés chimiques et formation de complexes

Composés binaires et ternaires

Le silicium forme d'extensifs composés binaires à travers le tableau périodique, le dioxyde de silicium (SiO₂) étant le composé le plus stable thermodynamiquement et le plus significatif géologiquement. L'énergie de liaison Si-O de 452 kJ/mol, considérablement supérieure à celle des liaisons Si-Si (226 kJ/mol), motive l'affinité du silicium pour l'oxygène et explique la prédominance des minéraux silicates. Les tétrahalogénures de silicium (SiF₄, SiCl₄, SiBr₄, SiI₄) montrent une stabilité thermique décroissante et une sensibilité croissante à l'hydrolyse avec l'augmentation de la taille de l'halogène. Le carbure de silicium (SiC) se forme par synthèse à haute température, créant des céramiques extrêmement dures avec liaisons covalentes à travers des réseaux tridimensionnels étendus. Le nitrure de silicium (Si₃N₄) se développe par réactions de nitruration contrôlées, produisant des matériaux aux propriétés mécaniques exceptionnelles et à résistance élevée à l'oxydation. Les siliciures métalliques comme FeSi, Mg₂Si et CaSi₂ démontrent la capacité du silicium à former des composés intermétalliques avec des états d'oxydation négatifs formels.

Chimie de coordination et composés organométalliques

La chimie de coordination du silicium dépasse la géométrie tétraédrique typique par hypervalence, particulièrement avec les ligands fluor formant des anions hexafluorosilicates SiF₆²⁻ à géométrie octaédrique et liaisons Si-F de 169 pm. La chimie organosilicienne englobe les silanes (SiH₄, Si₂H₆, homologues supérieurs), les siloxanes (réseaux Si-O-Si) et les silylamines (systèmes liés Si-N). Contrairement aux composés du carbone, les liaisons silicium-hydrogène sont plus réactives vis-à-vis de l'attaque nucléophile, et les chaînes siliciennes rarement excédant six atomes en raison de liaisons Si-Si plus faibles. Les groupes silanols (Si-OH) subissent facilement des réactions de condensation, formant des liaisons siloxane constituant la structure de base des polymères silicones. La capacité à former des ponts Si-O-Si stables avec des angles de liaison de 140° à 180° permet une diversité structurale remarquable dans les polymères synthétiques et les minéraux silicates naturels. Les complexes de coordination avec des donneurs azotés, soufrés ou phosphorés sont généralement moins stables que leurs analogues oxygénés, bien que des ligands spécialisés puissent stabiliser des géométries et états d'oxydation inhabituels du silicium.

Présence naturelle et analyse isotopique

Répartition géochimique et abondance

L'abondance crustale du silicium de 272 000 ppm (27,2 % en masse) en fait le deuxième élément le plus abondant après l'oxygène (455 000 ppm). Cette abondance reflète son caractère lithophile et son affinité forte pour l'oxygène, l'intégrant dans pratiquement tous les minéraux formateurs de roches ignées. Les roches felsiques comme le granite contiennent 320 000 à 350 000 ppm de silicium, tandis que les roches mafiques comme le basalte renferment 200 000 à 250 000 ppm, démontrant son rôle fondamental à travers les environnements géologiques variés. Les minéraux silicates constituent plus de 90 % du volume crustal terrestre, incluant les silicates en réseau (quartz, feldspaths), en chaîne (pyroxènes, amphiboles), en feuillet (micas, argiles) et tétraédriques isolés (olivines, grenats). Les processus d'altération génèrent des concentrations de silice dissoute de 1 à 30 ppm dans les eaux naturelles, permettant son utilisation biologique par les diatomées et autres organismes construisant des squelettes siliceux. Les processus hydrothermaux peuvent concentrer la silice dissoute jusqu'à saturation de 100 à 200 ppm à température élevée, menant à la précipitation du quartz et autres polymorphes siliceux.

Propriétés nucléaires et composition isotopique

Le silicium possède trois isotopes stables d'abondance naturelle : ²⁸Si (92,223 %), ²⁹Si (4,685 %) et ³⁰Si (3,092 %). Ces isotopes subissent une fractionnement massique minime dans la plupart des processus naturels, bien que les systèmes biologiques et les processus géochimiques à haute température puissent produire des variations mesurables. L'isotope ²⁹Si sert de sonde importante en résonance magnétique nucléaire avec un spin nucléaire I = 1/2 et un moment magnétique μ = -0,555 magnéton nucléaire, permettant la détermination structurale des matériaux silicates. Vingt-deux isotopes radioactifs ont été caractérisés, allant de ²²Si à ³⁶Si, avec ³²Si représentant le radioisotope de plus longue durée de vie d'environ 150 ans. La plupart des isotopes radioactifs du silicium subissent une désintégration bêta, avec ³¹Si (t₁/₂ = 2,62 heures) utilisé dans des études de traçage biologique. Les sections efficaces d'absorption neutronique sont relativement faibles pour les isotopes stables : ²⁸Si (0,177 barn), ²⁹Si (0,101 barn), ³⁰Si (0,107 barn), contribuant à l'utilité du silicium dans des applications nucléaires où une capture neutronique minimale est souhaitée.

Production industrielle et applications technologiques

Extraction et méthodes de purification

La production industrielle du silicium implique la réduction carbothermique de la silice dans des fours à arc électrique à des températures excédant 2000 °C, consommant environ 13 à 15 MWh par tonne métrique de silicium produite. La séquence réactionnelle principale commence par SiO₂ + C → SiO + CO, suivie de SiO + C → Si + CO, avec la formation intermédiaire de SiC compliquant le mécanisme. Le silicium de qualité métallurgique (MGS) avec une pureté de 98 à 99 % sert à la plupart des applications, tandis que le silicium de qualité électronique nécessite une purification extrême via le procédé Siemens. Cette méthode convertit le MGS en trichlorosilane SiHCl₃ par réaction avec le chlorure d'hydrogène à 300 °C, puis une distillation fractionnée élimine les impuretés à des niveaux inférieurs à la partie par milliard. Le dépôt chimique en phase vapeur du SiHCl₃ purifié sur des barreaux de silicium chauffés à 1100 °C produit du silicium polycristallin avec des impuretés inférieures à 1 ppb. La croissance de monocristal via les méthodes Czochralski ou de zone fondue crée le silicium ultra-pur requis pour les applications semi-conductrices avancées. La production mondiale de silicium atteint environ 7 millions de tonnes annuelles, la Chine représentant les deux tiers de la production principalement pour applications métallurgiques.

Applications technologiques et perspectives futures

La signification technologique du silicium s'étend à plusieurs industries, les alliages ferrosilicium consommant 80 % de la production pour désydratation de l'acier en fusion et alliages. Ces applications métallurgiques exploitent l'affinité forte du silicium pour l'oxygène afin d'éliminer l'oxygène dissous de l'acier liquide, tandis que des ajouts de silicium jusqu'à 4 % améliorent les propriétés magnétiques de l'acier pour les noyaux de transformateurs. Les applications semi-conductrices, bien que représentant moins de 15 % de la production en masse, génèrent la plus grande valeur économique à travers les circuits intégrés, dispositifs discrets et cellules photovoltaïques. Les microprocesseurs modernes contiennent des milliards de transistors fabriqués à partir de tranches de silicium avec des tailles caractéristiques inférieures à 10 nanomètres, nécessitant une pureté des matériaux et une précision de traitement sans précédent. Les applications photovoltaïques consomment des quantités croissantes de silicium polycristallin et monocristallin, avec des rendements de conversion dépassant 26 % pour les dispositifs de laboratoire et 20 % pour les modules commerciaux. Les applications émergentes incluent les dispositifs d'informatique quantique à base de silicium, les anodes de batteries avancées exploitant la haute capacité de stockage du lithium du silicium et la photonique silicium pour les communications optiques. L'industrie du bâtiment utilise le silicium dans la production de ciment, la fabrication de verre et les joints silicones, tandis qu'applications spécialisées incluent des abrasifs (carbure de silicium), des céramiques (nitrure de silicium) et des composants optiques exploitant la transparence infrarouge du silicium.

Développement historique et découverte

La découverte du silicium a résulté d'investigations systématiques sur la composition de la silice, que Antoine Lavoisier soupçonnait contenir un élément inconnu en 1787 en raison de sa résistance à la décomposition. La suggestion de Thomas Thomson en 1817 que la silice ressemblait à l'alumine en contenant un élément métallique a fourni la base théorique à son isolement. Jöns Jakob Berzelius a obtenu la première préparation du silicium élémentaire en 1823 par réduction du fluorosilicate de potassium avec du potassium métallique, bien que le produit ait contenu des impuretés significatives. Les premiers chercheurs, incluant Gay-Lussac et Thénard, ont tenté de réduire la silice avec du potassium mais n'ont produit que des matériaux impurs. Le nom « silicium » dérive du latin « silex, silicis » signifiant silex, avec le suffixe « -on » suggérant un caractère non métallique similaire au bore et au carbone. Les améliorations de purification d'Henri Sainte-Claire Deville en 1854 ont permis une détermination systématique des propriétés, tandis que les recherches étendues de Friedrich Wöhler ont établi le silicium comme élément unique distinct du carbone malgré leurs similarités chimiques. Les propriétés semi-conductrices du silicium sont restées largement inexploitées jusqu'au développement du transistor par les Laboratoires Bell en 1947, déclenchant la révolution technologique de la Silicon Valley. Les techniques modernes de production de silicium ultra-pur développées par des entreprises comme Siemens ont permis l'industrie des circuits intégrés qui définit la technologie numérique actuelle.

Conclusion

La combinaison unique de stabilité chimique, de propriétés semi-conductrices et d'abondance crustale établit l'importance fondamentale du silicium à travers des domaines scientifiques et technologiques variés. Sa préférence de coordination tétraédrique et son affinité forte pour l'oxygène créent la base structurale des systèmes minéraux dominants de la Terre, tandis que la modification contrôlée de ses propriétés électroniques permet les dispositifs sophistiqués caractérisant la civilisation moderne. Les progrès continus en purification du silicium, croissance cristalline et techniques de traitement promettent une expansion des applications dans l'énergie renouvelable, l'informatique quantique et la science des matériaux avancée. Les recherches futures incluent le développement de dispositifs quantiques à base de silicium, l'amélioration du rendement photovoltaïque via des stratégies de dopage avancées et les allotropes novateurs du silicium avec des propriétés mécaniques ou électroniques améliorées.

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