Élément | |
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14SiSilicium28.085532
8 4 |
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Propriétés de base | |
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Numéro atomique | 14 |
Masse atomique | 28.08553 amu |
Famille d'éléments | Métaloïdes |
Période | 3 |
Groupe | 14 |
Bloc | p-block |
Année découverte | 1823 |
Distribution des isotopes |
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28Si 92.23% 29Si 4.67% 30Si 3.10% |
28Si (92.23%) 29Si (4.67%) 30Si (3.10%) |
Propriétés physiques | |
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Densité | 2.3296 g/cm3 (STP) |
(H) 8.988E-5 Meitnérium (Mt) 28 | |
Fusion | 1410 °C |
Hélium (He) -272.2 Carbone (C) 3675 | |
Ébullition | 2355 °C |
Hélium (He) -268.9 Tungstène (W) 5927 |
Propriétés chimiques | |
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États d'oxydation (moins courant) | -4, +4 (-3, -2, -1, 0, +1, +2, +3) |
Potentiel de première ionisation | 8.151 eV |
Césium (Cs) 3.894 Hélium (He) 24.587 | |
Affinité électronique | 1.390 eV |
Nobelium (No) -2.33 (Cl) 3.612725 | |
Électronégativité | 1.9 |
Césium (Cs) 0.79 (F) 3.98 |
Rayon atomique | |
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Rayon covalent | 1.16 Å |
(H) 0.32 Francium (Fr) 2.6 | |
Van der Waals rayon | 2.1 Å |
(H) 1.2 Francium (Fr) 3.48 | |
Composés | ||
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Formule | Nom | État d'oxydation |
SiC | Carborundum | -4 |
SiH4 | Silane | -4 |
SiO | Monoxyde de silicium | +2 |
SiS | Monosulfure de silicium | +2 |
Si2H6 | Disilane | +3 |
Si2Cl6 | Hexachlorodisilane | +3 |
SiO2 | Dioxyde de silicone | +4 |
Na2SiO3 | Métasilicate de sodium | +4 |
SiCl4 | Tétrachlorure de silicium | +4 |
Si3N4 | Nitrure de silicium | +4 |
Si(N3)4 | Tétraazide de silicium | +4 |
SiAu4 | Aurosilane | +4 |
Propriétés électroniques | |
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Électrons par couche | 2, 8, 4 |
Configuration électronique | [Ne] 3s2 |
Modèle atomique de Bohr
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Diagramme de la boîte orbitale
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électrons de valence | 4 |
Structure de Lewis en points |
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Visualisation orbitale | |
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| |
Électrons | - |
Silicium (Si) : Élément du tableau périodique
Résumé
Le silicium (Si, numéro atomique 14) est le deuxième élément le plus abondant dans la croûte terrestre avec une concentration de 27,2 % en masse et occupe une position centrale dans le groupe 14 du tableau périodique. Ce métalloïde présente une structure cristalline cubique diamant et démontre des propriétés semi-conductrices qui définissent la technologie électronique moderne. Avec un point de fusion de 1414 °C et une configuration électronique [Ne]3s²3p², le silicium forme principalement des liaisons covalentes par hybridation sp³. Les applications industrielles incluent les alliages ferrosilicium représentant 80 % de la production ainsi que les dispositifs semi-conducteurs qui constituent la base technologique de l'ère de l'information. Son occurrence naturelle se limite exclusivement aux formes oxydées telles que la silice (SiO₂) et les minéraux silicates, avec trois isotopes stables (²⁸Si, ²⁹Si, ³⁰Si) et 22 radioisotopes caractérisés. La combinaison unique de stabilité chimique, de propriétés thermiques et de caractéristiques électroniques établit son importance fondamentale dans les domaines de la métallurgie, de la construction et des technologies avancées.
Introduction
Le silicium occupe la position 14 dans le tableau périodique, le plaçant dans le groupe du carbone (groupe 14) et la troisième période avec une structure électronique [Ne]3s²3p². Cette position détermine sa nature tétravalente et ses propriétés intermédiaires entre les métaux et les non-métaux, le classant comme un métalloïde. Son importance s'étend des processus géologiques, où il constitue la structure de base de la plupart des minéraux crustaux, aux applications technologiques qui ont défini l'ère moderne. La capacité du silicium à former des réseaux covalents étendus par coordination tétraédrique permet à la fois les structures cristallines des minéraux silicates et les propriétés électroniques précisément contrôlées essentielles aux dispositifs semi-conducteurs. La découverte par Jöns Jakob Berzelius en 1823, réalisée par réduction du fluorosilicate de potassium, a marqué le début de la chimie systématique du silicium, conduisant finalement au développement de la technologie des semi-conducteurs qui caractérise la civilisation numérique actuelle.
Propriétés physiques et structure atomique
Paramètres atomiques fondamentaux
La structure atomique du silicium comprend 14 protons, généralement 14 neutrons dans l'isotope le plus abondant ²⁸Si, et 14 électrons organisés en configuration [Ne]3s²3p². La charge nucléaire effective ressentie par les électrons de valence est d'environ +4,29, résultant de la charge nucléaire partiellement écrantée par les électrons du cœur néon. Le rayon covalent mesure 117,6 pm pour les liaisons simples, tandis que le rayon ionique théorique atteint environ 40 pm dans des environnements hexacoordinés, bien que le silicium existe rarement dans des états ioniques purs. Les quatre électrons de valence en configuration 3s²3p² subissent facilement une hybridation sp³, créant quatre orbitales tétraédriques équivalentes qui définissent la chimie de coordination du silicium. Les énergies successives d'ionisation de 786,3, 1576,5, 3228,3 et 4354,4 kJ/mol traduisent la difficulté croissante d'arracher des électrons à des ions silicium de charge positive croissante, avec un saut important entre la troisième et quatrième énergies d'ionisation indiquant la stabilité de la configuration Si⁴⁺.
Caractéristiques physiques macroscopiques
Le silicium cristallise dans la structure cubique diamant (groupe spatial Fd3̄m, n° 227) avec chaque atome de silicium coordonné tétraédriquement à quatre autres à une distance de 235 pm. Cette disposition crée un solide dur et fragile avec un éclat métallique bleu-gris et une densité de 2,329 g/cm³ à température ambiante. Le point de fusion de 1414 °C (1687 K) et le point d'ébullition de 3265 °C (3538 K) reflètent la solidité des liaisons covalentes à travers le réseau cristallin. La chaleur de fusion est de 50,2 kJ/mol, tandis que la chaleur de vaporisation atteint 384,22 kJ/mol, indiquant des exigences énergétiques substantielles pour les transitions de phase. La capacité thermique massique mesure 0,712 J/(g·K) à 25 °C, démontrant la stabilité thermique du silicium. Le matériau présente des propriétés semi-conductrices avec une bande interdite de 1,12 eV à température ambiante, permettant une conductivité électrique contrôlée par dopage avec des éléments des groupes 13 ou 15. Le coefficient de dilatation thermique de 2,6 × 10⁻⁶ K⁻¹ garantit une stabilité dimensionnelle à température modérée.
Propriétés chimiques et réactivité
Structure électronique et comportement de liaison
Le comportement chimique du silicium découle de ses quatre électrons de valence et de sa capacité à étendre sa coordination au-delà de quatre par participation des orbitales d. Les états d'oxydation courants incluent -4 dans les siliciures métalliques, +2 dans les subhalogénures et +4 dans la plupart des composés stables, bien que des états intermédiaires existent dans certains cas. L'électronégativité de 1,90 sur l'échelle de Pauling place le silicium entre les métaux et non-métaux typiques, permettant la formation de liaisons covalentes polaires avec la plupart des éléments. L'énergie de liaison Si-Si d'environ 226 kJ/mol, nettement inférieure aux 356 kJ/mol de la liaison C-C, explique la limitation de la caténation du silicium et sa préférence pour les liaisons avec l'oxygène. Le silicium forme facilement quatre orbitales hybridées sp³, créant une géométrie tétraédrique dans des composés comme SiCl₄ et SiH₄. Le nombre de coordination peut s'étendre à six par participation des orbitales 3d, comme observé dans les complexes SiF₆²⁻, où les liaisons Si-F mesurent 169 pm contre 156 pm dans le SiF₄ tétraédrique.
Propriétés électrochimiques et thermodynamiques
Le silicium présente plusieurs valeurs d'électronégativité selon la méthode de mesure : 1,90 (Pauling), 2,03 (Allen), reflétant son caractère métallique-non métallique intermédiaire. Les potentiels de réduction standards des espèces silicium montrent des préférences thermodynamiques : Si + 4e⁻ → Si⁴⁺ a pour E° = -0,857 V, indiquant le caractère réducteur du silicium en solution acide. L'affinité électronique du silicium atteint 133,6 kJ/mol, nettement inférieure à celle du carbone (121,3 kJ/mol) mais suffisante pour former des anions stables dans les siliciures métalliques. Les énergies successives d'ionisation révèlent la structure électronique : les quatre premiers électrons peuvent être arrachés avec des apports énergétiques relativement modérés (786,3, 1576,5, 3228,3, 4354,4 kJ/mol), mais la cinquième énergie d'ionisation bondit à 16091 kJ/mol, confirmant son caractère tétravalent. La stabilité thermodynamique des composés silicium suit l'ordre : silicates > dioxyde de silicium > carbure de silicium > nitrure de silicium, la formation de silicates libérant l'énergie la plus importante par mole de silicium consommé.
Composés chimiques et formation de complexes
Composés binaires et ternaires
Le silicium forme d'extensifs composés binaires à travers le tableau périodique, le dioxyde de silicium (SiO₂) étant le composé le plus stable thermodynamiquement et le plus significatif géologiquement. L'énergie de liaison Si-O de 452 kJ/mol, considérablement supérieure à celle des liaisons Si-Si (226 kJ/mol), motive l'affinité du silicium pour l'oxygène et explique la prédominance des minéraux silicates. Les tétrahalogénures de silicium (SiF₄, SiCl₄, SiBr₄, SiI₄) montrent une stabilité thermique décroissante et une sensibilité croissante à l'hydrolyse avec l'augmentation de la taille de l'halogène. Le carbure de silicium (SiC) se forme par synthèse à haute température, créant des céramiques extrêmement dures avec liaisons covalentes à travers des réseaux tridimensionnels étendus. Le nitrure de silicium (Si₃N₄) se développe par réactions de nitruration contrôlées, produisant des matériaux aux propriétés mécaniques exceptionnelles et à résistance élevée à l'oxydation. Les siliciures métalliques comme FeSi, Mg₂Si et CaSi₂ démontrent la capacité du silicium à former des composés intermétalliques avec des états d'oxydation négatifs formels.
Chimie de coordination et composés organométalliques
La chimie de coordination du silicium dépasse la géométrie tétraédrique typique par hypervalence, particulièrement avec les ligands fluor formant des anions hexafluorosilicates SiF₆²⁻ à géométrie octaédrique et liaisons Si-F de 169 pm. La chimie organosilicienne englobe les silanes (SiH₄, Si₂H₆, homologues supérieurs), les siloxanes (réseaux Si-O-Si) et les silylamines (systèmes liés Si-N). Contrairement aux composés du carbone, les liaisons silicium-hydrogène sont plus réactives vis-à-vis de l'attaque nucléophile, et les chaînes siliciennes rarement excédant six atomes en raison de liaisons Si-Si plus faibles. Les groupes silanols (Si-OH) subissent facilement des réactions de condensation, formant des liaisons siloxane constituant la structure de base des polymères silicones. La capacité à former des ponts Si-O-Si stables avec des angles de liaison de 140° à 180° permet une diversité structurale remarquable dans les polymères synthétiques et les minéraux silicates naturels. Les complexes de coordination avec des donneurs azotés, soufrés ou phosphorés sont généralement moins stables que leurs analogues oxygénés, bien que des ligands spécialisés puissent stabiliser des géométries et états d'oxydation inhabituels du silicium.
Présence naturelle et analyse isotopique
Répartition géochimique et abondance
L'abondance crustale du silicium de 272 000 ppm (27,2 % en masse) en fait le deuxième élément le plus abondant après l'oxygène (455 000 ppm). Cette abondance reflète son caractère lithophile et son affinité forte pour l'oxygène, l'intégrant dans pratiquement tous les minéraux formateurs de roches ignées. Les roches felsiques comme le granite contiennent 320 000 à 350 000 ppm de silicium, tandis que les roches mafiques comme le basalte renferment 200 000 à 250 000 ppm, démontrant son rôle fondamental à travers les environnements géologiques variés. Les minéraux silicates constituent plus de 90 % du volume crustal terrestre, incluant les silicates en réseau (quartz, feldspaths), en chaîne (pyroxènes, amphiboles), en feuillet (micas, argiles) et tétraédriques isolés (olivines, grenats). Les processus d'altération génèrent des concentrations de silice dissoute de 1 à 30 ppm dans les eaux naturelles, permettant son utilisation biologique par les diatomées et autres organismes construisant des squelettes siliceux. Les processus hydrothermaux peuvent concentrer la silice dissoute jusqu'à saturation de 100 à 200 ppm à température élevée, menant à la précipitation du quartz et autres polymorphes siliceux.
Propriétés nucléaires et composition isotopique
Le silicium possède trois isotopes stables d'abondance naturelle : ²⁸Si (92,223 %), ²⁹Si (4,685 %) et ³⁰Si (3,092 %). Ces isotopes subissent une fractionnement massique minime dans la plupart des processus naturels, bien que les systèmes biologiques et les processus géochimiques à haute température puissent produire des variations mesurables. L'isotope ²⁹Si sert de sonde importante en résonance magnétique nucléaire avec un spin nucléaire I = 1/2 et un moment magnétique μ = -0,555 magnéton nucléaire, permettant la détermination structurale des matériaux silicates. Vingt-deux isotopes radioactifs ont été caractérisés, allant de ²²Si à ³⁶Si, avec ³²Si représentant le radioisotope de plus longue durée de vie d'environ 150 ans. La plupart des isotopes radioactifs du silicium subissent une désintégration bêta, avec ³¹Si (t₁/₂ = 2,62 heures) utilisé dans des études de traçage biologique. Les sections efficaces d'absorption neutronique sont relativement faibles pour les isotopes stables : ²⁸Si (0,177 barn), ²⁹Si (0,101 barn), ³⁰Si (0,107 barn), contribuant à l'utilité du silicium dans des applications nucléaires où une capture neutronique minimale est souhaitée.
Production industrielle et applications technologiques
Extraction et méthodes de purification
La production industrielle du silicium implique la réduction carbothermique de la silice dans des fours à arc électrique à des températures excédant 2000 °C, consommant environ 13 à 15 MWh par tonne métrique de silicium produite. La séquence réactionnelle principale commence par SiO₂ + C → SiO + CO, suivie de SiO + C → Si + CO, avec la formation intermédiaire de SiC compliquant le mécanisme. Le silicium de qualité métallurgique (MGS) avec une pureté de 98 à 99 % sert à la plupart des applications, tandis que le silicium de qualité électronique nécessite une purification extrême via le procédé Siemens. Cette méthode convertit le MGS en trichlorosilane SiHCl₃ par réaction avec le chlorure d'hydrogène à 300 °C, puis une distillation fractionnée élimine les impuretés à des niveaux inférieurs à la partie par milliard. Le dépôt chimique en phase vapeur du SiHCl₃ purifié sur des barreaux de silicium chauffés à 1100 °C produit du silicium polycristallin avec des impuretés inférieures à 1 ppb. La croissance de monocristal via les méthodes Czochralski ou de zone fondue crée le silicium ultra-pur requis pour les applications semi-conductrices avancées. La production mondiale de silicium atteint environ 7 millions de tonnes annuelles, la Chine représentant les deux tiers de la production principalement pour applications métallurgiques.
Applications technologiques et perspectives futures
La signification technologique du silicium s'étend à plusieurs industries, les alliages ferrosilicium consommant 80 % de la production pour désydratation de l'acier en fusion et alliages. Ces applications métallurgiques exploitent l'affinité forte du silicium pour l'oxygène afin d'éliminer l'oxygène dissous de l'acier liquide, tandis que des ajouts de silicium jusqu'à 4 % améliorent les propriétés magnétiques de l'acier pour les noyaux de transformateurs. Les applications semi-conductrices, bien que représentant moins de 15 % de la production en masse, génèrent la plus grande valeur économique à travers les circuits intégrés, dispositifs discrets et cellules photovoltaïques. Les microprocesseurs modernes contiennent des milliards de transistors fabriqués à partir de tranches de silicium avec des tailles caractéristiques inférieures à 10 nanomètres, nécessitant une pureté des matériaux et une précision de traitement sans précédent. Les applications photovoltaïques consomment des quantités croissantes de silicium polycristallin et monocristallin, avec des rendements de conversion dépassant 26 % pour les dispositifs de laboratoire et 20 % pour les modules commerciaux. Les applications émergentes incluent les dispositifs d'informatique quantique à base de silicium, les anodes de batteries avancées exploitant la haute capacité de stockage du lithium du silicium et la photonique silicium pour les communications optiques. L'industrie du bâtiment utilise le silicium dans la production de ciment, la fabrication de verre et les joints silicones, tandis qu'applications spécialisées incluent des abrasifs (carbure de silicium), des céramiques (nitrure de silicium) et des composants optiques exploitant la transparence infrarouge du silicium.
Développement historique et découverte
La découverte du silicium a résulté d'investigations systématiques sur la composition de la silice, que Antoine Lavoisier soupçonnait contenir un élément inconnu en 1787 en raison de sa résistance à la décomposition. La suggestion de Thomas Thomson en 1817 que la silice ressemblait à l'alumine en contenant un élément métallique a fourni la base théorique à son isolement. Jöns Jakob Berzelius a obtenu la première préparation du silicium élémentaire en 1823 par réduction du fluorosilicate de potassium avec du potassium métallique, bien que le produit ait contenu des impuretés significatives. Les premiers chercheurs, incluant Gay-Lussac et Thénard, ont tenté de réduire la silice avec du potassium mais n'ont produit que des matériaux impurs. Le nom « silicium » dérive du latin « silex, silicis » signifiant silex, avec le suffixe « -on » suggérant un caractère non métallique similaire au bore et au carbone. Les améliorations de purification d'Henri Sainte-Claire Deville en 1854 ont permis une détermination systématique des propriétés, tandis que les recherches étendues de Friedrich Wöhler ont établi le silicium comme élément unique distinct du carbone malgré leurs similarités chimiques. Les propriétés semi-conductrices du silicium sont restées largement inexploitées jusqu'au développement du transistor par les Laboratoires Bell en 1947, déclenchant la révolution technologique de la Silicon Valley. Les techniques modernes de production de silicium ultra-pur développées par des entreprises comme Siemens ont permis l'industrie des circuits intégrés qui définit la technologie numérique actuelle.
Conclusion
La combinaison unique de stabilité chimique, de propriétés semi-conductrices et d'abondance crustale établit l'importance fondamentale du silicium à travers des domaines scientifiques et technologiques variés. Sa préférence de coordination tétraédrique et son affinité forte pour l'oxygène créent la base structurale des systèmes minéraux dominants de la Terre, tandis que la modification contrôlée de ses propriétés électroniques permet les dispositifs sophistiqués caractérisant la civilisation moderne. Les progrès continus en purification du silicium, croissance cristalline et techniques de traitement promettent une expansion des applications dans l'énergie renouvelable, l'informatique quantique et la science des matériaux avancée. Les recherches futures incluent le développement de dispositifs quantiques à base de silicium, l'amélioration du rendement photovoltaïque via des stratégies de dopage avancées et les allotropes novateurs du silicium avec des propriétés mécaniques ou électroniques améliorées.

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